众所周知，在过去的三年里，为了限制华为的5G领先优势，老美修改了世界半导体行业的规则，以阻止国内芯片行业的发展。但这不仅损害了美国本土的芯片公司，也激起了国内芯片自研的浪潮。
众所周知，在芯片制造领域，有一项“卡脖子”技术，那就是EUV光刻机。但是，很多人不知道，白春礼校长说的已经做到了。EUV光刻机的研究在中国科学院已经开展了很长时间。目前整体情况越来越清晰。
01院长白春礼公开表示部署技术研究。
在过去的三年里，中国加快了芯片自给的步伐，在芯片设计、芯片封装、芯片代工等方面都取得了巨大的成就。但由于老美的限制，EUV光刻机问题亟待解决，也关系到国产高端芯片的自主突破。
例如，在2021年，美国仍然向ASML施压。据《华尔街日报》去年7月18日的消息，美国再次向荷兰施压，要求限制荷兰向美国市场出口EUV光刻机。虽然看到这些美国老流氓真的很窝火，但是国内的科学家并没有因此而受到影响，而是继续自己研究芯片相关技术。
2020年9月16日，中科院院长白春礼在新闻发布会上公开表示:“中科院已经做了一些安排，解决‘卡脖子’问题。”当然，“卡脖子”技术包括EUV光刻机。
此外，白春礼院长还表示，面向未来十年，将制定二期规划，布局解决“卡脖子”的技术难题。他说:“我们把‘卡脖子’的清单变成了我们的科研任务清单进行布局，未来十年我们会对‘卡脖子’的一些关键问题做一些新的安排。”
从这两句话可以明确，中科院早在2020年就在研究光刻机的相关技术。此外，未来十年，中科院将进一步部署和解决EUV光刻机等关键技术。
也许有些网友会问，到现在为止，中科院还没有看到EUV光刻机出来。而且EUV光刻机需要10W以上的零件，都是高端技术。现在，十年内很难解决这个问题，不是吗？很难，但也不完全是，因为中科院长期以来一直在做实用研究，EUV的技术布局很清晰。
中科院EUV光刻机的技术布局非常清晰。
我们知道，在某个科技领域，要想立足，必须要有核心技术和专利，更注重技术人才的招聘。中科院也是同样的布局。
1.技术专利
据了解，早在2002年，中国科学院就开始了EUV技术的研发，并已申请了专利。中国科学院光电研究所于2002年6月申请了“自适应全反射极紫外投影光刻物镜”专利，专用于EUV光刻机。
经过多年的研究和积累，中科院下属的光电子研究所、光学与美术研究所、微电子研究所、高能物理研究所等科研机构已经申请了100多项EUV技术专利。
申请的专利越多，设备的研发就越有保障，这样就不会有侵权。
2.技术研究
众所周知，一台光刻机重达180吨，共有10万多个零件，零件来自全球5000家供应商。制作掩模对准器非常困难。是一个集思广益，整合全球高端零配件资源的大家伙。
然而，光刻机的三个核心部分是:双工作台、光源和光学镜头。在这三个方面，中科院都进行了集中研发。
比如2021年，这三大核心技术传来好消息:1)中科院高能所即将完成国内首台高能同步辐射光源设备；2)中科易科子公司中科柯美研发了线性劳厄透镜镀膜装置和纳米聚焦透镜镀膜装置，是EUV光刻机使用的光学透镜；3)朱昱教授帮助华卓精科掌握了双工作台技术，并交付给上海微电子。
3.人才招聘
近年来，自中科院正式为RD引进光刻机后，开始在院内外乃至国际上招募EUV人才。
最值得注意的是，最近中科院上海光机所推出了2022年博士后招聘启事，其中不乏EUV技术人才。比如从事极紫外到X射线光源和激光电子调制技术；EUV光源的产生理论和实验:EUV光源的成像探测。
这些都是EUV光刻机研究的核心技术，也体现了中科院对EUV光刻机技术人才的高度重视。
03摘要
中科院肩负重任，布局EUV光刻机技术研发多年，正在努力克服各种技术壁垒。而且从头到尾，大局越来越清晰，每一步都在走。未来5-10年，我国在该技术领域将有重大突破。
也许，有人会说，EUV光刻机的技术成分复杂，不可能在短时间内将技术转化为应用成果。但中科院坚定不移地走自主化道路，每走一步都是进步，会越走越远。
对此你有什么看法？
