掩模对准器意味着使用光来制作图形；平整硅晶片表面，然后将掩模上的图案转移到光刻胶上，从而将器件或电路结构临时“复制”到硅晶片上的工艺。
是光刻机中芯片生产的高科技产品。光刻机的难点在于“技术封锁”。光刻机的关键部件来自不同的发达国家，如美国的光栅、德国的透镜、瑞典的轴承等。关键是这些顶级部件是对我国禁运的。早在2017年，我国SMIC就预订了ASML 7nm制程工艺的光刻机。由于许多原因，它仍然没有收到货物。可以说是“有钱也买不到。”
目前，光刻机的老大是荷兰ASML公司，占据了全球80%的市场份额。现在最先进的EUV光刻机只能由荷兰ASML公司生产。光刻机的技术门槛非常高，可以说是人类智慧的产物。
根据ASML的说法，只有在ASML投资的国家才能获得供货权，因为英特尔、三星、TSMC、海力士等。所有人都在ASML投资并拥有股份，所以他们可以在荷兰购买ASML的口罩对准器。ASML到2040年生产的光刻机订单已经被预定。
荷兰ASML公司光刻机光刻机的技术难度很大，目前很多国家都无法研发。荷兰ASML公司生产的光刻机的零部件都是由多个国家开发生产的零部件组织而成。比如光学设备的零件由德国提供，测光设备和光源设备由美国提供。NM光刻机有13个系统，需要30000个组件组装。
今天，在尖端的光刻机方面，在整个世界上，只有荷兰的ASML公司是唯一的。目前荷兰ASML已经进入7nm和5nm工艺的光刻机。目前没有第二家公司能做到！
荷兰ASML公司5nm光刻机光刻机的难点在于精度和高技术。从EUV光的能量到过程中的所有部件和材料，都在不断挑战人类的极限。
目前中国只能买到ASML的低端产品，很难以最高价买到高端的光刻机。上海微电子可以生产光刻机，但是只能生产90nm及以下的工艺。距离ASML的7纳米工艺还有很长的路要走。目前，中国已经开发出28纳米光刻机。其次，SMIC和华虹也已经量产了14nm工艺的光刻机。但是7nm以下的光刻机至今无法突破，还有很多技术难点需要解决。
中国已经研发的28nm光刻机从世界范围来看，外国企业基本上会放开对中国能生产什么的限制。只要中国不能自主研发生产某样东西，其他国家就会对中国进行各种封锁。
武汉光电国家研究中心令人欣慰的是，武汉光电国家研究中心已经成功研制出9nm线宽双光束超衍射极限光刻样机。一旦光刻机中的高端技术被突破，在不久的将来，祖国将会走一条不同的道路来打破这种禁锢！我相信，中国真正的崛起很快就会到来！
