主要的溅射方法可以根据其特征分为以下四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射。另外，利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积。 现在的直流溅射（也叫二级溅射）较少用到，原因是溅射气压较高，电压较高，溅射速率小，膜层不稳定等缺点。 直流溅射发展后期，人们在其表面加上一定磁场，磁场束缚住自由电子后，以上缺点均有所改善，也是现阶段广泛应用的一种溅射方法。 而后又有中频溅射，提高了阴极发电速率，不易造成放电、靶材中毒等现象。 而射频溅射是很高频率下对靶材的溅射，不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料。沉积的膜层致密，附着力良好。 如果寻找本质区别是：直流溅射是气体放电的前期，而射频是后期，我们最常见的射频是电焊机。溅射过程所用设备的区别就是电源的区别。
1）有高的沉积速率。中频溅射时靶功率密度是直流时的三倍情况下可以得到十倍的沉积速率；
2）膜内缺陷低。由于消除了打火现象膜内缺陷比直流溅射时低几个数量级；
3）膜内应力低，与基体结合力强。由于中频溅射时到达基体的原子能量高于直流溅射，因此沉积时基体温升高，形成的膜较致密；
4）连接简单。中频溅射时电源与靶的连接比射频（13.56MHz)溅射容易，后者需要复杂的阻抗匹配。
脉冲磁控溅射是采用脉冲电源或者直流电源与脉冲生成装置配合，输出脉冲电流驱动磁控溅射沉积。一般使用矩形波电压，既容易获得又有利于研究溅射放电等离子体的变化过程。工作模式与中频溅射。
民用玻璃膜技术中的真空磁控溅射技术,主要是用于玻璃膜中的金属层,能够达到高清晰,并且是从原子级别进行重新排列和组合,而真正的金属膜是没有彩色的,有的就算金属原色,像银色灰色等等,
金属膜能够使得节能方面节约30%左右，所以，不管是建筑膜还是汽车膜方面，请大家可以好好了解一下，了解一下真空磁控溅射技术！大师玻璃膜等是这种技术，而国内的厂商只有西南物理研究科学院掌握了这一技术。
