只能找到这个，希望对你有帮助。
设备说明：
JIL-1000型真空镀膜机是立式单开门非平衡磁控反应溅射镀膜机。此设备所沉积的膜层在致密度、均匀度、纯度、硬度等方面均有提高。广泛应用于手表、眼镜、通讯、电子、机械、装饰和交通航空等领域的高档装饰和功能性薄膜。
设备特点
本真空镀膜机镀膜室、阀门、管道均采用不锈钢制造，立式、单开门结构；
1、沉积速率快，温升小，能较好抑制打火及靶中毒现象；
2、溅射释放的高能量使膜层密度和附着力有显著提高；
3、触摸屏+PLC,可实现全自动控制，自动/手动随时切换；
4、镀膜室容积大，装载量大，生产效率高。
5、工件架采用公转结构，可设置自动正反转，产品均匀性好。
6、整机配置合理，抽气速率快，噪声小，耗能低。
7、可根据客户要求配多套靶源
主要技术参数：
●极限真空 50 X 10-4Pa
●抽气时间 2 X 10-2Pa≤8min(空载)
●镀制硬膜、黑膜 （膜厚1μm）制程时间大约60分钟左右每炉。
●工件转速1-15r/min连续可调。
●沉积速率 Ti≥500nm/min
●功 率 总功率约80KW
●耗 水 量 35m3/h
●设备毛重3500Kg,设备尺寸约5 X 6 X23m
设备配置：
镀膜室
真空室结构
不锈钢制造，立式，单开门
真空室规格
Φ1000 X 1000mm
工件架
Φ800 X 850 mm
抽气系统（普通配置）
机械泵 2X-70，罗茨真空泵ZJ-300，油扩散泵KC-500，维持泵2X-8
充气系统
多路质量流量控制仪供气，配备有SMC隔断阀、流量计显示仪
溅射电源
中频溅射电源
可配多套
脉冲偏压电源
1套
电控
触摸屏+PLC，自主设计控制方式镀膜工艺可存储、更换
靶
平面靶4套，90 X 770
回答问题可能不是特别对口，部分题目不是特别详细，也没办法详细。如果有疑问再追问或者联系我。
1膜层厚度测量问题：如果是纯净的氧化锌，或者说是透明的，就可以用光学方法测量膜层厚度，如果是非透明的，就用台阶仪，这量类的测量厚度的光学仪器不少，我不再细说。需要注意的是选择适当的测量范围的仪器。
2一般磁控溅射可以分为直流（二级）溅射、中频、射频。直流溅射电源便宜，沉积膜层致密度较差，一般国内光热、薄膜电池选择使用的方法，能量较低，溅射靶材为金属靶材。射频能量较高，一般溅射陶瓷靶材。中频两者之间，溅射靶材也为金属靶材。
3金属靶材溅射过程中，具有溅射速率和沉积速率。溅射速率是靶材原子被溅射逸出的情况，而沉积在基体上的情况为沉积速率，两者在溅射气压等外界环境不同的情况下，并不成正比。但是需要固定工艺下的长时间计算可以确定镀膜时间的。（但是这个时间一般按照溅射完成后膜层的厚度测量来的更加准确）
4在金属靶材溅射过程中，如果想达到氧化亚锌的理想值，比较难，需要精确控制溅射产额和氧气流量。一般溅射物质为氩气（价格便宜，溅射产额较高）。主要为控制过程，国内的质量流量计一般都比较粗，建议用压电陶瓷阀，德国的sus04。另一个方案是射频溅射氧化亚锌陶瓷靶材，这个容易控制溅射后沉积膜层的两元素的比值。但是需要靶材符合两元素的比之条件，另外，在射频溅射过程中，需要严格控制靶材，陶瓷靶溅射过程中，容易断裂。还有就是射频的危害性较大。
以上为泛泛而谈。如果不通，精确讨论是免不了的。
