说来话长，简单点的话就是：阴极被激发的电子在电场作用下加速飞向衬底基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和二次电子，二次电子飞向衬底基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在衬底上形成薄膜。二次电子在加速飞向衬底的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面做圆周运动，该电子的运动路径很长，在运动过程中不断地与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材，经过多次碰撞后二次电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，
最终沉积在衬底上
1、检查真空镀膜机各操作控制开关是否在关位置；
2、打开总电源开关，设备送电；
3、低压阀拉出，开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起；
4、安装固定钨螺旋加热子，把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上，把铝丝穿放在螺旋加热子内，清理钟罩内各部位，保证无任何杂质污物；
5、落下钟罩；
6、启动抽真空机械泵；
7、开复合真空计电源；
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种，主要思路是分成蒸发和溅射两种。
