1 直流和射频是对加在靶上的电源所说的。本质区别自然就在直流是持续不间断加在上面，射频是具有一定的频率（13.56MHz）间隔加在靶上的。详细解释只能去看书，还不让粘贴，没人会找本书来给你慢慢敲在这里
2 这个说法不对。直流磁控溅射只能用导电的靶材（靶材表面在空气中或者溅射过程中不会形成绝缘层的靶材），并不局限于金属。譬如，对于铝靶，它的表面极易形成不导电的氧化膜层，造成靶表面电荷积累（靶中毒），严重时直流溅射无法进行。这时候，就需要射频电源，简单的说，用射频电源的时候，有一小部分时间是在冲抵靶上积累的电荷，不会发生靶中毒。
去找本书，《薄膜科学与技术》，里面解释的还行。或者半导体设备的书里面也会有涉及
新靶先装好，正负极要开路状态。可以用兆欧表测，表针摇到中间位置OK了，靶电源线要接好，当然你也可以用万用表量，检查靶的水路，进出水OK，真空度到达1。0-2PA后开始充氩气，等压强到2。0~3。0-1PA时，点靶就能起弧了。可以小电流轰靶了，慢慢加，靶如果跳的话，电流小一点，轰靶根据靶材的不同，轰的时间不一样，一般易氧化的靶，轰久点，有什么不清楚可以问我
