据投资报消息，近日，武汉余伟光学软件有限公司宣布完成A轮数千万融资，智道资本联合武汉光谷产业投资、烽火创投参与投资。
本轮融资完成后，余伟光学将进一步加强各核心模块的集成和软件产品化，同时对各种软件参数进行校准、测试和验证。
宇光学成立于2020年10月。依托华中科技大学数字化制造装备与技术国家重点实验室、武汉光电国家研究中心等国家平台十余年来在集成电路制造领域取得的重要成果，公司致力于光刻掩膜优化设计技术和软件的自主开发，旨在打破Synopsys、Mentor、ASML-Brion的垄断，确保中国集成电路厂商不断将芯片设计转化为芯片产品的能力。
到2025年，全球半导体芯片市场预计将达到创纪录的5.5万亿人民币，以支撑10.5万亿的万物互联市场。目前，国内芯片从软件到硬件的设计、制造、封装、测试等全生命周期都依赖国外的技术和设备，芯片制造相关技术已经成为制约我国产业化升级的关键因素。与制造设备一样，光刻掩膜版的优化设计技术和软件也是制约我国集成电路制造业可持续发展的“瓶颈”问题。国内目前还没有商用的OPC软件产品，余伟光学的研发将填补国内技术空的空白。
道资本表示:此次道资本参与投资余伟光学，是对国家集成电路自主发展战略布局的积极响应，对攻克“卡脖子”技术难题的RD自主公司给予持续支持。道资本还将帮助于微光学光刻掩膜版的优化设计技术和软件的研发。
